一.簡介   1500mL   
    哈林試驗(yàn)槽(Haring cell)是用于測(cè)定鍍金液的均一電著性， 陰極板置于兩端可移動(dòng)陽極板置于中間任何定點(diǎn)，以測(cè)定陽 極到兩陰極的電流分配之比較金屬析出量之比。
　 在原始的發(fā)明中，槽的尺寸為長度60cm,寬度10cm， 高度10cm,鍍液量6000cc。由槽的尺寸及液量，可知在試驗(yàn) 前的建浴，試驗(yàn)中的(連續(xù)過濾)液體凈化，鍍液攪拌的均勻度 及溫度的均一控制等操作，如果沒有優(yōu)良的輔助器具，將難 于達(dá)到設(shè)定的操作標(biāo)準(zhǔn)。因而影響到試驗(yàn)的準(zhǔn)確性，因此為 求得空間的節(jié)省、槽的清洗、鍍液分配及凈化等操作之方便 ，遂有1500cc,2000cc等改良型這哈林試驗(yàn)槽之出現(xiàn)。
 

二.哈林試驗(yàn)
　　哈林試驗(yàn)為測(cè)定電流分配比(P)與金屬析出比(M)之關(guān)系， 而以百分比表示均一電著性(Ｔ)之試驗(yàn)。均一電著性良好時(shí)為 正，不良時(shí)為負(fù)，其表示法有數(shù)種，通常適用于Ｆield公式，其計(jì)算法如下：

      均一電著性Ｔ(%)=(Ｐ1-M)/(P+M-2)＊100

      Ｐ：(liner ratio)電流分配比，以距離比的倒數(shù)表示，
      Ｍ：(Metal ratio)金屬析出比，
      注：陽極板亦有使用孔狀或網(wǎng)狀者．(以利鍍液流通、均勻)

 

三.均一電著性之影響
　　在電鍍過程里由外觀來說，提高均一電著性將可得到更 平整的鍍膜，得以提升產(chǎn)品的美觀及附加價(jià)值。就提高生產(chǎn) 管理而言，將節(jié)省許多的經(jīng)費(fèi)，并擴(kuò)大產(chǎn)量。 　　舉例來說：（例一）有一個(gè)電路板鍍金手指的生產(chǎn)業(yè)者 ，他的客戶要求在金手指上鍍５um之黃金，但是他發(fā)現(xiàn)，如 果要使金手指中間低電流域達(dá)到５um時(shí)，兩端高電流區(qū)域之 厚度已達(dá)到１０－１２um，話說回來，如果應(yīng)用哈林槽試驗(yàn) 來提升鍍液的電著均一性，將使高低電流區(qū)域之鍍膜厚度更 加平均．這樣不但可縮短電鍍時(shí)間擴(kuò)大產(chǎn)量還可節(jié)省金屬鹽之消耗，經(jīng)長久累計(jì)，那將是一筆可觀的金錢．
　（例二）有一性酸性鍍鋅者，購得某（大廠牌）的酸性鋅光澤劑經(jīng)滾桶試鍍后，外觀非常的漂亮，但在后處理的鉻酸鹽液處理后，螺絲牙縫內(nèi)露出基材－鐵，這時(shí)他還是很信任（大廠牌）于是再試一延長電鍍時(shí)間，加強(qiáng)過 濾，降低鉻酸鹽之酸含量及浸漬時(shí)間之縮短，清潔匯流排（集電導(dǎo)線）調(diào)整PH值．．．等，一連幾天問題依舊，最后 換了另一家廠牌的建浴配方及光澤劑才使問題解決。在這個(gè) 例子里，螺絲牙縫（低電流）及牙尖（高電流）的電著厚度 相差很大，都是均一性不良造成的，因此可斷定的說這個(gè)大 廠牌在開發(fā)過程中忽略了哈林試驗(yàn)的重要，導(dǎo)致信譽(yù)受損。 又如果我們的業(yè)者能在購入化學(xué)品前，將樣品預(yù)做哈林試驗(yàn) 也就不會(huì)虛擲了時(shí)間和人力。
　　由以上簡例我們得知哈林試驗(yàn)－均一電著性之重要性，這提供我們鍍液的開發(fā)改良及生產(chǎn)工程上的均一性管理。在 研究上藉此開發(fā)出最優(yōu)良的配方提升產(chǎn)業(yè)水準(zhǔn)，在生產(chǎn)管理 上利用此測(cè)知鍍液中的各種鹽類（金屬鹽、導(dǎo)電鹽、緩沖鹽 添加劑），ＰＨ值，溫度…　等之變化，對(duì)均一性之改變及 影響．
　　有許多業(yè)者認(rèn)為，哈氏試驗(yàn)槽(HUIIC-EII)已可解決他們 許多研究生管理上的困擾.這是我們都同意的視點(diǎn),但是在均一 電著性之試驗(yàn)及應(yīng)用上,哈氏槽實(shí)在很難得到客觀的比較標(biāo)準(zhǔn) ,因此才有哈林試驗(yàn)槽的發(fā)明及應(yīng)用. 謹(jǐn)簡咯說明哈林試驗(yàn)槽之應(yīng)用,提升吾等鍍金工業(yè)之水準(zhǔn) 是唯所盼.