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1.應(yīng)用領(lǐng)域
產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于真空制鹽,精細(xì)化工,石油化工,制藥,氯堿工業(yè),電鍍,電解,航空
航天,海水淡化等行業(yè)。
2、加工工藝
鍛造、軋制
3、表面
車光、倒角。表面清潔光滑,無(wú)起皮,氣孔,裂紋等缺陷。
4、規(guī)格
Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40較常見,其他規(guī)格可按客戶
要求制作。
5、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
國(guó)標(biāo):GB/T 16598,GB/T2965 。
美標(biāo):ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
6、檢測(cè)
破壞性檢測(cè):物理性能測(cè)試,硬度測(cè)試,化學(xué)成分測(cè)試。
無(wú)損檢測(cè):超聲檢測(cè),滲透檢測(cè),外觀檢測(cè)。
離子鍍是真空室中,利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí),將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)結(jié)合起來(lái),不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量,而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜附著力強(qiáng),繞射性好,膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍?cè),起工作過(guò)程是:
先將真空室抽至4×10(-3)帕以上的真空度,再接通高壓電源,在蒸發(fā)源與基片之間建立一個(gè)低壓氣體放電的低溫等離子區(qū)。基片電極接上5KV直流負(fù)高壓,從而形成輝光放電陰極。輝光放電區(qū)產(chǎn)生的惰性氣體離子進(jìn)入陰極暗區(qū)被電場(chǎng)加速并轟擊基片表面,對(duì)其進(jìn)行清洗。然后進(jìn)入鍍膜過(guò)程,加熱使鍍料氣化,起原子進(jìn)入等離子區(qū),與惰性氣體離子及電子發(fā)生碰撞,少部分產(chǎn)生離化。離化后的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面,致使膜層質(zhì)量得到改善。
然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區(qū)別。多弧離子鍍采用的是弧光放電,而并不是傳統(tǒng)離子鍍的輝光放電進(jìn)行沉積。簡(jiǎn)單的說(shuō),多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發(fā)源,通過(guò)靶與陽(yáng)極殼體之間的弧光放電,使靶材蒸發(fā),從而在空間中形成等離子體,對(duì)基體進(jìn)行沉積。
離子鍍膜的優(yōu)點(diǎn):
1.從陰極直接產(chǎn)生等離子體,不用熔池,陰極靶可根據(jù)工件形狀在任意方向布置,使夾具大為簡(jiǎn)化。
2.入射粒子能量高,膜的致密度高,強(qiáng)度和耐久性好,附著強(qiáng)度好。
3.離化率高,一般可達(dá)60%~80%。
4.從應(yīng)用的角度講,其突出優(yōu)點(diǎn)是蒸鍍速率快。
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