技術(shù)參數(shù)

•為XRF制作玻璃熔片
•為AA和ICP的準(zhǔn)備溶液

尺寸:
高=200 mm – 深=290 mm –寬=350 mm
電源:110 or 240 VAC 50/60 Hz
功率: 120 Watts
氣壓:
丙烷: 3kPa
天然氣: 5kPa
空氣源: 250 kPa (*小)
氧氣源: 250 kPa (*小)

主要特點(diǎn)

設(shè)計(jì)緊湊的PHOENIX – S,*優(yōu)的性價(jià)比。重復(fù)性: +/- 0,2% RSD
無(wú)論你是什么應(yīng)用,S是一款入門級(jí)產(chǎn)品,你只需知道: Simple(簡(jiǎn)單) = Single (單個(gè))= Sample(樣品) = Solutions(解決方案)
觸摸屏控制具備所有大型制樣設(shè)備的功能包括清晰精確的時(shí)間設(shè)定.無(wú)需特殊程序設(shè)置技巧,只需從觸摸屏調(diào)出程序即可
靈活的程序設(shè)置
微處理器可*多存儲(chǔ)6個(gè)用戶自定義熔融程序，每個(gè)程序都包含3個(gè)不同的步驟：熔融，漩渦熔融，澆鑄和冷卻。
靈活的熔融參數(shù)
通過(guò)控制器可對(duì)所有熔融參數(shù)方便地進(jìn)行設(shè)置:
•熔融溫度和時(shí)間
•渦流/混合速率和頻率
•模具（鑄造盤）預(yù)熱溫度和時(shí)間
•澆鑄前暫停
•澆鑄角度，速率和時(shí)間
•冷卻延遲
•冷卻時(shí)間和空氣流動(dòng)速率

儀器介紹

X射線熒光分析對(duì)于粉末樣品，目前采用直接壓片法制備試樣較為普遍，但由于粒度、礦物、偏析等效應(yīng)的影響，勢(shì)必帶來(lái)分析誤差，降低元素分析的精密度與準(zhǔn)確度，樣品制備已經(jīng)成為一個(gè)主要的誤差因素。玻璃熔融法制成的試樣能消除試樣的粒度、礦物、偏析等效應(yīng)，同時(shí)也可降低樣品元素間的吸收和增強(qiáng)效應(yīng)，會(huì)明顯提高分析的精度和準(zhǔn)確度。對(duì)于ICP、AA和濕法化學(xué)分析手段，對(duì)于難溶樣品，熔融方法同樣是一種非常完美的制樣手段。