是一種用于產生等離子體的裝置，通常被用于在真空環(huán)境中進行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝，以及半導體刻蝕和薄膜設備的預處理反應和清洗等。與傳統(tǒng)等離子體源不同的是，RPS通常不直接接觸要處理的表面，而是在一定距離之外產生等離子體，并將等離子體輸送到目標表面，因此被稱為“遠程等離子體源”。

應用特征

采用新的固態(tài)微波源技術【非磁控管微波源】。具有很高的頻率、功率穩(wěn)定性，使用壽命長。

自主開發(fā)的微波匹配器，能實現(xiàn)在不同氣體條件下，快速進行微波源與等離子體的阻抗匹配。

等離子體發(fā)生器材質可選，適用于多種氣體。

體積小、集成度高、便于更換。低顆粒污染;

獨特的等離子反應腔設計，適用于多種氣體的電離與阻抗匹配。

系統(tǒng)運行時，氣體壓力適應范圍寬。氣體電離率高、電離速度快。


 

是一種用于產生等離子體的裝置，通常被用于在真空環(huán)境中進行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝，以及半導體刻蝕和薄膜設備的預處理反應和清洗等。與傳統(tǒng)等離子體源不同的是，RPS通常不直接接觸要處理的表面，而是在一定距離之外產生等離子體，并將等離子體輸送到目標表面，因此被稱為“遠程等離子體源”。

應用特征

采用新的固態(tài)微波源技術【非磁控管微波源】。具有很高的頻率、功率穩(wěn)定性，使用壽命長。

自主開發(fā)的微波匹配器，能實現(xiàn)在不同氣體條件下，快速進行微波源與等離子體的阻抗匹配。

等離子體發(fā)生器材質可選，適用于多種氣體。

體積小、集成度高、便于更換。低顆粒污染;

獨特的等離子反應腔設計，適用于多種氣體的電離與阻抗匹配。

系統(tǒng)運行時，氣體壓力適應范圍寬。氣體電離率高、電離速度快。